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类型HBZ 5086.4-2000 氰化电镀铜溶液分析方法 电位滴定法测定碳酸钠的含量.pdf

  • 上传人:xiaohai
  • 文档编号:49992845
  • 上传时间:2017-06-17
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    HBZ 5086.4-2000 氰化电镀铜溶液分析方法 电位滴定法测定碳酸钠的含量 5086.4 2000 氰化 镀铜 溶液 分析 方法 电位 滴定法 测定 碳酸钠 含量
    资源描述:
    中华人民共和国航空エ业标准
    HB/∥5086.1~5086.9-2000
    氰化电镀铜溶液分析方法
    2000~-09-20发布
    2001-01-01实施
    国防科学技术工业委员会批准
    中华人民共和国航空工业标准
    氰化电镀铜溶液分析方法
    电位滴定法測定碳酸钠的含量B5086,4-200
    代替HB/ZS086-78(四)
    1范围
    本标准规定了采用电位滴定法测定氧化电镀铜溶液中碳酸钠含量的方法原理、试剂、仪
    器、分析步骤及分析结果的计算。
    本标准适用于氰化电镀铜溶液中碳酸钠含量的测定。
    测量范围:60~100g/L。
    2引用标准
    下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而构成为本标准的条文。在标准出版时,所
    示版本均为有效。所有标准都会被修订,使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的
    可能性。
    GB/T601-1988化学试剂滴定分析(容量分析)用标准溶液的制备
    3方法原理
    碳酸钠与氯化钡作用生成碳酸钡沉淀,经过滤或离心分离后,以玻璃电极为指示电极,饱
    和甘汞电极为参比电极,用盐酸标准滴定溶液对碳酸钡进行电位滴定。
    4试剂
    4.1氯化钡溶液:100g/Lo
    4.2盐酸标准滴定溶液:c(HCI)=1molL,配制和标定按GB/T601进行。
    5仪器
    5.1玻璃电极
    5.2饱和甘汞电极。
    5.3酸度计或自动电位滴定仪:应具有0.1pH单位或10mV的精确度。
    5.4磁力搅拌器。
    6分析步骤
    国防科学技术工业委员会2000-09-20发布
    2001-01-01实施
    HB5086.4-2000
    取5.00mL试验溶液于200mL烧杯中,加煮沸后的热水(约80℃)50mL、氯化钡溶液(4.
    1)15mL,搅拌2min,用慢速滤纸过滤。用热水洗涤沉淀至滤液近中性后,将沉淀及滤纸移入
    原烧杯中,加无二氧化碳的水100ml,在中速搅拌下(滤纸搅拌至细碎状)浸泡电极2min。用盐
    酸标准滴定溶液(4.2)进行电位滴定,滴定至pH4.0时为滴定终点。
    7分析结果的计算
    按(1)式计算碳酸钠的含量
    NaCO3(g几)=c(HCU)×Vx0.059x100
    式中:c(HC)-盐酸标准滴定溶液的浓度,molL;
    v一滴定终点时耗用盐酸标雅滴定溶液的体积,mL
    V。滴定时试验溶液的体积,mL;
    0.05299与1.00mL盐酸标准滴定溶液[c(HCI)=1.,000oL/L]相当的以克表示的
    碳酸钠的质量。
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