真空镀膜(PVD)工艺介绍.pdf

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Dongguan JANUS Precision Components Company Limited
真空镀膜(PVD)工艺知识介绍
拟订:张玉立
讲解:刘红彪
2010年01月20日
车莞劲胜精密组件股份有限公司
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のの
1。真空镀膜技术及设备发展
2。真空镀膜的エ艺基本流程;
3.真空镀膜的工艺特性;
真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求;
5.真空镀膜工艺关键技术与先进性;
6真空镀膜新工艺展示
7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍
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真空镀膜行业兴起背景;随着欧盟RoHS指
令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。传统
高污染之电镀行业已不符合环保要求,必将被
新兴环保エ艺取代。而真空镀膜没有废水、废
气等污染,在环保上拥有绝对优势,必将兴起
并普及
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1再空技术及备发展
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1。制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法
氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法
涂布法、液相生成法等。气相生成法又可
分为物理气相沉积法(简称P法)化学气
相沉积法和放电聚合法等。
我们今天主要介绍的是物理气相沉积
法。由于这种方法基本都是处于
空环境
下进行的,因此称它们为真空镀膜技术
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1真空镀膜技术及设备发展
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2.物理气相沉积法依据制作过程エ艺不同又分为真空蒸发镀膜、磁控溅
射镀膜和离子镀膜
a,真空蒸发镀膜法:在真空室(镀炉)中加热蒸发容器中待形成薄膜的
原材料,使其原子或分子从表面气化逸出,形成蒸气流,入射到固体
(待镀产品)表面,凝结形成固态薄膜的方法
真空镀膜法示意图
样品
转
「蒸发OO
高真空状态
自转
加热
真空镀膜金属
电源回路