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类型真空镀氮化钛层的退除.pdf

  • 上传人:ydyan2017
  • 文档编号:42153152
  • 上传时间:2019-05-22
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    关 键  词:
    真空 氮化
    资源描述:
    II40の
    hlaberiath attention
    表5电解液温度对膜层颜色的影响
    3结论
    B/25
    45
    1)磷酸浓度影响氧化膜的均匀性和颜色深浅,葡
    20V蓝色蓝色蓝色蓝色蓝色(青色(不均)蓝绿色
    微不均)
    萄糖酸钠浓度影响成膜速度和颜色对应的电压区间
    40V黄色黄色黄色黄色红黄色红色(不均)红色(不均)氧化电压影响膜层厚度和颜色,电流密度决定氧化膜
    60V品红色品红色品红色品红色红绿色绿色(不均)绿色(不均)的生长速度。
    2.3酸洗对膜层质量的影响
    2)优化的电解液配方和工艺参数为100mL/L磷
    将酸洗和未酸洗的2片TA2纯钛片在100mL磷酸,20g/L補萄糖酸钠,温度25℃,氧化时间606
    (3)酸洗后的试样着色更加均匀,封孔可以提高膜
    酸、20gL葡萄糖酸钠的混合溶液中,25℃,70V阳极
    层的抗污染能力
    氧化60s,发现酸洗后的钛片着色均匀,而未酸洗的钛
    片着色不均。这是由于酸洗液中的HF是钛的强氧化
    参考文献]
    剂,1.5%~2.5%的HF即可在很短时间内将钛大量溶
    1]张玉梅,郭天文,李佐臣.钛及钛合金在口腔科应用的研究
    解。将磨好的钛片放人酸洗液中,钛片表面氧化膜迅
    方向[JJ.生物医学工程学杂志,2000,17(2):20~208.
    速溶解。而钛对氢有较强的亲和性,容易引起氢脆。
    [2]赵晴,杜楠,王元正,等.H3PO4+C。H1O,Na体系中
    钛合金阳极氧化着色工艺研究[J].南昌航空工业学院
    HNO3的加人使钛表面生成一层TF4,反应如下
    学报,2000,14(1):47~49.
    fiO2+6HF=[TF。]2-+2H'+2H20(1)[3]周泽,曾鹧,谢光荣,等.电解电压对钛阳极氧化膜
    2TI +6HF=2TIF, +3H, 1
    (2)
    表面状态的影响[J].广州化工,2006,34(6):24~25
    3T+4HNO2+12HF=3TF,+8H2O+4NOt(3)[4]刘天国,张海金,钛及钛合金阳极氧化J!航空精密制
    TiF4膜可以防止HF侵入钛内部,降低了氢脆程度。因
    造技术,2004,40(4):17~22
    此,选用由HF和HNO3按一定配比组成的酸洗液处理[5]戴正宏,王玉林,何宝明钛阳极氧化膜的着色研究[J]
    材料保护,2004,37(3):25~29.
    钛片,F对自然生成的氧化钛膜起着溶解作用,而[6]杨哲龙,张景双,钱新民,等·钛及其合金阳极氧化与着
    HINO3对钛起着钝化保护作用」。
    色工艺研究[].材料保护,1989,22(7):11~14.
    2.4封孔对膜层质量的影响
    [7]姜伟,申德新,张云琨,等、钛合金着色技术的研究
    刚出槽的氧化膜颜色均匀,但经酒精清洗、吹干后
    材料保护,2005,38(9):12~14.
    用手擦拭,容易被污染,颜色变得不均匀,而污染后的[8]辛湘杰,薛俊峰,董敏,钛的腐蚀、防护及工程应用
    [M].合肥:安徹科技出版社,1988:30~45.
    氧化膜再经酒精清洗、吹干,也不能恢复原有的鲜艳色
    [编校;郑霞]
    彩。将刚着色完的钛片用酒精清洗,再经去离子水90
    ℃封孔30min后吹干,氧化膜抗污染能力提高,即使用
    手反复擦拭,经酒精凊洗、吹干后也能恢复原有的鲜艳
    真空镀氮化钛层的退除
    色彩。氧化膜在热水中与OH反应,生成水合氧化钛,
    真空镀氮化钛层硬度高、耐、耐蚀,具有良
    即TO2?H20,由于水合氧化钛体积比原有的氧化铁分好的装饰性能,但批量生产中出现缺陷的真空镀
    子大,体积膨胀使氧化膜孔隙变小,从而封闭微孔,使ま氮化钛层应予以退除。退镀方法如下
    膜层不易污染。TA2钛片在100mL/L磷酸、20g/L葡
    (1)将退镀件整齐摆放在容器内,用30%双
    萄糖酸钠的混合溶液中,25℃,70V下阳极氧化60s
    氧水将其浸没;然后慢慢加入粒状氢氧化钠(试剂
    得到的氧化膜封孔前后的表面SEM形貌见图2。
    级),此时溶液中产生气泡,至膜层退浄为止;再用
    水将退镀件清洗干净,烘干。操作中氢氧化钠一
    定要慢慢加人,否则因反应激烈会逸出大量气泡。
    (2)将退件浸入体积比1:1的HNO,HF
    十退镀液中,膜层会逐渐退除,退除于净后立即用水
    50m
    5041
    清洗,烘干,防止退镀液对基体产生腐蚀。对少量
    (a)封孔前
    (b)封孔后
    的退镀件,也可用棉纱蘸退镀液反复擦拭,将膜层
    图2氧化膜封孔前后的表面SEM形貌
    退掉,再清洗烘干
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