JB T 8226.4-1999光学零件镀膜 内反射膜.pdf

ICS17.180;37.020
N30
中华人民共和国机械行业标准
JB/T8226.1~8-1999
光学零件镀膜
Coating for optical element
1999-08-06发布
2000-01-01实施
图家机械工业局发布
目录
JB/T8206.1-1999光学笭件镀膜减反射膜…
JB/18206.2-1999光学零件镀膜水解法镀双层减反射膜……
JB/180.3-1999光学零件镀膜外反射膜…
JBA18226.4-1999光学零件镀膜内反射膜
827
JB/18206.5-1999光学零件镀膜中性滤光膜………
IB/18206.6-1999光学零件镀膜窄带干涉滤光膜………
JB/822.7-1999光学零件镀膜分束膜?…
IB/1r826.8-1999光学零件镀膜截止滤光膜……
P自看由
JB/T8226.4-1999
前言
本标准是对JBT8226.49(CB1322-8)光学零件镀牒内反射膜
时,对原标准作
了编辑性修改,主要术内容没有变化。
本标准自实施之日起代替巾/T8226.4-9
本标准由全国光学和光学器标准化技术员会提出并口。
本标准负责起单位上海逃学仪器研究所
中华人民共和国机械行业标准
JB/TB226.4~1999
光学零件镀膜内反射膜
代替J/T8206.4-95
Coating for optical element Rear surface mirror coating
1范
本标准规定了镀在光学玻璃零件上膜层的技术要求、试验方法、检验规则。
本标准适用于在光学玻璃零件上镀有保护层的银或铝内反射膜,用其它材料镀制而成的内反射膜也
可参照使用。
2引用标准
下列标准所包含的条文,通过在本标准中引用而枃成为本标准的条文。本标准出版时,所示版本均为
有效。所有标准都会被修,使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。
CB/T11851989光学件表面疵病
GB/T2423.1-1989电工电子产品基本环境试验拠程试验A低温试验方法
CB/T2423.3-1993电エ电子产品基本环境试验规程试验Ca:恒定湿热试验方法
CB/T242.17~-1993电工电子产品基本环境试验规程试验KWa:盐雾试验方法
CB/T2828-1987逐批检查计数抽样程序及抽样表(适用于连续批的检査
CB/T2829~1987周期检查计数抽祥程序及抽样表(适用于生产过程稳定性的检查)
3分类
3.1真空镀银内反射膜。
3.2溶液沉淀法镀银内反射膜。
3.3真空镀铝内反射膜。
4技术要求
4.1镀膜后零件的光学性能
4.1.1白光反射比
白光反射比R按表1规定。
表
%
条
号
反射比R不小于
3.1
3.2
85
国家机械工业局1999-08-06批准
2000-01-01实施
JB/T8226.4-1999
4.1.2光谱反射比
对光谱反射比有技术要求的,在400m~700nm波段上最小反射比R按表2规定。
表2
条
最小反射比R不小于
78
4.,2镀膜后零件的表面质量
4.2.1外观
膜层不允许有损坏痕迹,如起皮、脱膜、裂纹和灰等
4.2.2麻点
按抛光表面病的原级数,其个数G允许增加30%
4.2.3擦痕
按抛光表面病的原级数,其总长度允许增加30%
4.2.4针孔
膜层不允许有直径大于0mm的针孔存在;直径0.0lm-0.2mm的针孔按42.2麻点要求;直径小
于0.0lm针孔在间G的面积上的数量不允许超过25个。
4.3保护层质量
4.3.1保护层应均匀、无气泡和机械损伤。
4.3.2保护层对件表画镀摩应有良好的附着力;当用刀片交又切划时
成片剥落
4.3.33.1和3.在室温下化氢饱和溶液浸泡应无変化,保ア评层、拉裂和脱落
4.4镀膜后零件对环境的适廊性
4.4.1恒定湿热
无包装情况下,在温度40±2℃,相对湿度90%-95%的条件下保持24h膜层不允许脱落,光学性
能仍符合4.1要求
4.4.2盐雾
无包装情况下,在(重量度为4.9%-5.1%,H值为6.5-7.235的盐雾中受進续喷雾8h,
膜层不允许脱落,光学性能仍符合4.1要求。
4.4.3低温
无包装情況下,在-40℃3℃的低温中保持h,膜层应无龟裂、脱落,光学性能仍符合4.1要求。
5试验方法
5.1白光反射比(4.1.1)
用6V,30W自灯作光源、西光电池接收的反射比测量义,准确度优于1%
5.1.2试验程序
在膜面有效区域内任意位置上测量反射比,测量时光线人射角取45
5.2光谱反射比(4.
5.2.1试验工具
反射比测量装置:准确度优于1.5%和标定好反射比的反射镜
5.2.2试验程序
以标定的反射镜为基准,相对测定被检零件(厚度不大于1m)在可见区的光谱反射比。当被检零件