GBT 32999-2016 表面化学分析 深度剖析 用机械轮廓仪栅网复型法测量溅射速率.pdf

ICS71.040.40
G04
中华入民共和国国家标准
GB/T32999-2016/ISO/TR22335:2007
表面化学分析深度剖析用机械轮
廓仪栅网复型法测量溅射速率
Surface chemical analysis-depth profiling-measurement of sputtering rate:
mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer
(ISO/TR22335:2007,IDT)
2016-10-13发布
2017-09-01实施
中国国家标准化管理”委员会数布
GB/T32999-2016/ISO/TR22335:2007
目次
前言
引言
范围……………1
2术语和定义
………………………………1
符号和缩略语
=P中●●
4原理
方法
5.1获取栅网复型图形
BRRPRRAAABRAAHRR4A
5.2用轮廊仪测量溅射坑深度
5.3计算溅射速率
甲●·
实验室间联合比对结果总结
附录A(资料性附录)试样表面和离子枪的几何结构配置
电自
10
附录B(资料性附录)册网复型图形与网孔尺寸的关系…………
参考文献……
16
GB/T32999-2016/ISO/TR22335:2007
前言
本标准按照GB/T1.1-2009给出的规则起草
本标准使用翻译法等同采用ISO/TR22335:2007《表面化学分析深度剖析用机械轮廓仪栅网
复型法测量溅射速率》。
本标准由全国微束标准化技术委员会(SAC/TC38)提出并归口。
本标准负责起草单位:北京师范大学分析测试中心、清华大学分析中心。
本标准主要起草人:吴正龙、姚文清。
GB/T32999-2016/ISO/TIR22335:2007
引言
本标准给出了利用俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)测定深度剖析离了戏射速率的
方法,试样的离子溅射面积范围为0.4mm2~3.0mm2。首先在试样上放置一个合适大小并和试样表
面接触的栅?,通过离子溅射在试样表面上复制一个栅网图形。然后通过机械轮廓仪测量出溅射深度,
假设离子溅射速率恒定,则溅射速率等于溅射深度除以溅射时间。本标准提供了一种将深度剖析中离
子溅射时间转换为溅射深度的方法。
GB/T329-2016/ISO/TR22335:2007
表面化学分析深度剖析用机械轮
廓仪栅网复型法测量溅射速率
范围
本标准规定了利用俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)测定深度剖析离子溅射速率的
方法,试样的离子溅射面积范围为0.4mm2~3.0mm2。本标准只适用于横向均匀的体相材料或单层
材料,其离子溅射速率由溅射深度与溅射时间确定,溅射深度通过机械探针轮廓仪测得
本标准提供了一种将深度剖析中的离子溅射时间转换为湲射深度的方法,并假设溅射速率恒定。
本方法不是为扫描探针显微系统设计的,因此不能用扫描探针显微系统评价该方法。本方法不适用于
溅射面积小于0.4mm2的情况,也不适用于溅射诱导的表面粗糙度与被测区域的溅射深度相比较明显
的情况。
2术语和定义
下列术语和定义适用于本文件。
溅射时间 sputtering time
离子轰击试样表面的时间。
溅射深度 sputtered depth
被分析试样原始表面与经深度剖析剥离一定量物质后的表面之间的垂直距离
溅射速率 sputtering rate
溅射深度与溅射时间的比值
2.4
栅网 grid mesh
由一组网孔或筛孔组成的电铸栅网,一般整个栅网的直径为3mm。
注:推荐使用每英寸75孔的栅网2。
3符号和缩略语
下列符号和缩略语适用于本文件。
溅射深度
溅射时问
离子戏射速率
RRRR
参考物质的戏射速率
相对于参考物质的被测试样的溅射速率
被测物质1的溅射速率
AES俄歇电子能谱( Auger electron spectroscopy)