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类型钼酸钠添加剂对ZL108铝合金微弧氧化膜组织结构和硬度的影响.pdf

  • 上传人:ikyflying
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    关 键  词:
    钼酸 添加剂 ZL108 铝合金 氧化 组织 结构 硬度 影响
    资源描述:
    200
    钼酸钠添加剂对L108铝合金微弧氧化膜组织结构和硬度的影响
    钼酸钠添加剂对ZL108铝合金微弧氧化膜
    组织结构和硬度的影响
    梅雨堃,王平,陈光亮,朱毅科2,邵登全,吴俊杰
    (1.西南石油大学材料科学与工程学院,四川成都610500;
    2.四川华工石油钢管有限责任公司,四川成都610500)
    [摘要]为了系统研究钼酸钠对ZL108铝合金微孤氧化膜性能的影响,在30Mdm2大电流密度下改变电解
    液中钼酸钠的添加量,对ZL108铝合金试样进行徽孤氧化,通过徽弧氧化电压一时间曲线、X射线衍射仪
    (XRD)、X射线光电子能语(XPS)、扫描电镜(SEM)、测厚仪、硬度仪等考察钼酸钠添加量对微孤氧化电压及膜
    层相组成、成分、表面形貌、厚度、硬度的影响。结果表明,在大电流密度下,随着钼酸钠添加量的增加,氧化膜
    3s
    表面吸附物增加,起孤电压和氧化电压先升高后降低;钼酸钠的添加对陶瓷膜层相结构的影响较小,钼以MoO3
    形式存在于陶瓷膜层中;随着钼酸钠添加量的增加,氧化膜表面先出现孔径较大的微孔,随后微孔数量减少,孔
    径变小。
    [关键词]微孤氧化;钼酸钠;添加量;ZL108铝合金;组织结构;形貌;硬度
    [中图分类号]TG174.451「[文献标识码]A[文章编号]1001-1560(2013)10-000-03
    0前言
    mm,化学成分(质量分数,%):11.0~13.0S,1.0
    微弧氧化可将无序结构的氧化膜变为含有一定
    2.0Cu,0.4~1.0Mg,0.3~0.9Mn,AI余量。
    a相或相A2O3结构的陶瓷膜,且致密、硬度高、耐
    1.2微弧氧化工艺与设备
    磨、耐蚀、耐压绝缘性和抗高温冲击性优。添加剂具
    将试样在40℃的NaOH溶液中处理2min,取出
    有改性电解液的作用リ,进而可提高微弧氧化陶瓷膜后清水洗净,并用5%HNO2溶液进行出光处理。
    的质量和性能2。钼酸钠是一种低毒、改性作用显著
    采用5kW的恒流-脉冲微弧氧化装置;6g/L硅
    的高效缓蚀剂。用于阳极保护时,在小电流密度酸钠,2g/L氢氧化钠,0-4g/L酸钠;氧化电流密
    下中性或碱性冷却水中较高浓度(750~1000mg/1
    度30Admn2,占空比为25%,频率为100Hz,温度为
    以上)时能够提高膜层的致密度,获得表面平整度高、
    30-35℃,时间为30min
    膜层成分均匀的高质量氧化膜层。目前,有关钼酸13测试分析
    钠添加量对ZL108铝合金微弧氧化膜性能影响的研
    采用 Hitachi S-3400N扫描电镜(SEM)观察氧化
    究极少。本工作在大电流密度下不同钼酸钠添加量对膜的表面形貌。采用DX-1000射线行射仪(XRD)
    ZL108铝合金微弧氧化电压以及陶瓷膜相组成、成分、测定膜的相组成,采用T230型测厚仪测量膜层厚
    表面形貌、厚度、硬度的影响进行了研究。
    度。采用HVS-1000型显微硬度仪测量膜层硬度,
    XSAM-800型XPS仪检测钼价态,起飞角度20°,能量
    1试验
    源为AlKa,分辨率为0.9。
    1.1基材前处理
    2结果与讨论
    基材为ZL108铝合金,尺寸为10mx10mx2
    2.1钼酸钠添加量对微弧氧化电压的影响
    [收稿日期]2013-05-19
    不同钼酸钠添加量时微弧氧化电压-时间曲线见
    基金项目]四川省高等学校油气田材料重点实验室资图1。由图1可知:钼酸钠的添加促进了2ZL108铝合
    助项目(12Y91026)资助
    金表面在阳极氧化阶段形成一层吸附膜,导致起弧电
    [通信作者]王平(1981-),讲师,电话:08-8087405,压升高,随着添加量的增加,电解液导电性增加,起弧
    E-mail:818wp@163.com
    电压又有所下降;当钼酸钠添加量达到4g/L时,随
    钼酸钠添加剂对ZL108铝合金微弧氧化膜组织结构和硬度的影响
    反应进行微弧氧化电压出现大幅波动,这是由于
    (2)表面形貌不同钼酸钠添加量微弧氧化膜的
    Mo是选择性吸附阴离子,对电解液中的其他离子表面SEM形貌见图4。在不添加钼酸钠时,膜表面微
    存在选择性吸附?,表面附着物和吸附物的快速形成孔孔径较小,大部分被熔融新生成的膜覆盖,膜表面
    与累积对表面陶瓷层的熔融与再生长速度的影响增致密,但较为粗糙(见图4a),这与大电流密度下的成
    大,从而导致陶瓷膜表面附着物和吸附物增加,堵塞膜规律一致;钼酸钠添加量为2g/L时,膜表面出
    了陶瓷膜表面的放电通道,微弧氧化反应的持续进行现um左右的微孔,同时膜表面出现少量的熔融
    需要将吸附物重新击穿成孔而形成新的放电通道,而状附着物,并聚集于膜的凹陷处,使膜由粗糙变得平
    使微弧氧化电压出现大幅波动。
    整(见图4b);钼酸钠添加量増至3g/L时,膜上微孔
    数量减少,且孔径减小,膜表面的附着物增加,颗粒尺
    450
    寸增大,有附着物的区域微孔消失(见图4c);添加量
    达到4gL时,膜表面微孔孔径更小(见图4d)。以上
    400
    结果显示:在电流密度不变的情况下,随着钼酸钠添
    356
    加量的增加,膜表面白色吸附颗粒形状由圆滑逐渐转
    变为规则,其原因是钼酸钠吸附在膜的表面,在电弧
    051015202530
    ·二
    I/
    作用下发生重熔、相变和结晶,钼酸钠浓度增加,大电
    图1不同酸钠添加量的微弧氧化电压-时间曲线
    流密度作用使表面吸附物增多,结晶体逐步长大。结
    合图3Mo元素的XPS谱,认为白色点状吸附物可能
    2.2钼酸钠添加量对氧化膜组构的影响
    为MoO,颗粒,但由于其零散分布在膜表面,含量较
    (1)相组成不同钼酸钠添加量微弧氧化膜的少,xXRD谱中未检测到MoO2的特征峰。
    XRD谱见图2。由图2可知:氧化膜主要由y-A203和
    A组成;添加2gL钼酸钠对氧化膜相组成以及特征
    峰强度的影响不大;添加量达到3,4g/L时,非晶态氧
    化物特征峰强度有所升高,这是因为随着表面附着物
    和吸附物含量的增加,氧化膜层和微孔被覆盖,电弧放
    保护
    50m
    电作用减弱,表面生成的非晶态氧化物含量增加。
    50m
    (a)0g/几L
    (b)2g/L
    2500
    200A0
    1500
    书二
    1(0)0
    50 Hm
    50m
    1020304050607080
    (e)3g/
    (d)4g几L
    2/(
    图4不同钼酸钠添加量微弧氧化膜的表面SEM形貌
    图2不同铝酸钠添加量对氧化膜相组成的影响
    (3)膜厚钼酸钠添加量对氧化膜厚度的影响见
    微弧氧化膜表面Mo元素的XPS谱见图3。由图图5。由图5可见:随钼酸钠添加量的增加,膜厚逐渐
    3可见:氧化膜表面的Mo元素主要以MoO03减小,在大电流密度下,随着钼酸钠添加量的增加,氧
    (232.85eV)和部分MoO2或MoO(OH)2(231.85,化表面附着物及吸附物随之增加,生成硫松块状附
    234.1leV)的形式存在7,。
    400
    37.5
    ?35.0
    25
    27.5
    25.0
    Elev
    P(钼酸钠)/(g?L2)
    图3微弧氧化膜表面Mo元素的XS谱
    图5不同钼酸钠添加量对氧化膜厚度的影响<
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