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类型HB 5472-1991 金属镀覆和化学覆盖工艺用水水质规范.pdf

  • 上传人:icyshadow
  • 文档编号:74694156
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    关 键  词:
    HB 5472-1991 金属镀覆和化学覆盖工艺用水水质规范 5472 1991 金属 镀覆 化学 覆盖 工艺 水质 规范
    资源描述:
    中华人民共和国航空航天工业部
    航空工业标准
    HB5472-9
    金属镀覆和化学覆盖工艺
    用水水质规范
    1991-06-18发布
    1991-07-01实施
    中华人民共和国航空航天工业部批准
    中华人民共和国航空航天工业部航空工业准
    金属镀覆和化学覆盖工艺
    用水水质规范
    HB5472-91
    主题内容与适用范配
    本规范规定了金属镀覆和化学覆盖工.艺用水的水质分类和指标、水质分析方法及工艺用
    水要求。
    本规范适用于航空产品进行金属镀覆和化学覆盖工艺时的用水要求。
    2引用标准
    GB5750生活饮用水标准检验法。
    水质分类及指标
    3.1水质分类
    金属镀和化学覆盖工艺用水水质按不同要求,分为A、B,C三类。
    3.2水质推标
    3.2.1各类水的水质指标见表
    表1水质指诉
    水的类别
    指标名称
    单位
    B
    电阻率(25℃)
    ≥10000
    ≥7000
    1200
    总可溶性固体(TDS
    600
    氧化硅(SiO2)
    mgg
    pH值
    5.5~8
    氯离子[CI-]
    12
    注:1)供水处理方案见附录A
    般自来水能达到C类水指标。当达不到指标时,作道当处理
    3.2.2水质指标检测要求
    对A、B类水电阻率及pH值每日使用前检测一次;其它指标毎月一次。
    当电阻率有不正常变化时,需对所有指标进行全画检测
    航空航天工业部1991-6-18发布
    1991-07-01实施
    HB5472-91
    4水质分析方法
    4.1总可滲性固体的測定
    按GB5750测定。
    4.2化物測定
    按GB5750测定
    pH值的测定
    按GB5750测定
    4.4电阻率的測
    4.4-1按电导仪操作说明书要求进行测定。
    4.4-2电导仪测定值用电导率表示。电导率与电阻率的换算关系按公式(1)计算
    106
    ·(1)
    式中:p一电阻率,a?cn
    电导率,s/cm、。
    任意温度下的水的电阻率可按公式(2)换算成25℃时水的电阻率
    2L1+a(-25)]
    P自自自ロ●?电晶ロ?ロもb?由由古ち由ロローt
    (2)
    式中:s-25℃时的水的电阻率,2?cm
    p-任意水温时的水的电阻率,2cm;
    水温
    c一系数,当10で4.5二氧化硅的測定
    4.-5.1适用范围
    遺円于地下水、地画水、低纯水,SiO2含量在0.2~2mg/几L
    4.5.2原理
    将水样的pH值调至1.2左右,钼酸铵与晶体二氧化硅、非胶状二氧化硅,形成黄色硅钳
    杂多酸后,加入1ー氨堪一2一萘酚一4一磺酸还原剂时,被还原成硅铝蓝溶液g与标准溶液比
    色测定
    4.5.3试剂
    分析中只使用分析纯试剂和用硬质玻璃蒸馏器蒸出的重蒸馏水,或纯度与之相当的水
    4.5.3.11:!盐酸溶液
    4-5:32钊酸铵溶液:取1g钼酸铵[(NH,〉M-O1?4H2O]溶于慕馏水中,稀释至100m
    如有不溶物可过濃。
    4.5.3.37.5%(mn/v)草酸溶液:称取7.5g草酸(H2C242H20)溶于蒸馏水中,稀释至
    100ol。
    4.5.3:4还原剂溶液:称取500mg1ー氨基一2一禁酚一4磺酸和18亚硫酸钠(Na2SO23)溶
    于50m!蒸馏水中。必要时稍丌温,然后将此溶液加入含有30g亚硫酸氢钠( NAHSO2)的150m
    HB5472-91
    溶液中,过滤入聚乙烯瓶中。放入冰箱并避光保存。当发现溶液颜色变深即不宜使用。
    4.5.3.5二氧化硅贮备溶液:称取二氧化硅0.25008置于铂坩埚中,加入无水碳酸钠
    (Na2CO3)g,混匀。于高温炉中,在1000℃熔融h。取出冷却后,放于塑料烧杯中用热蒸馏水
    浸取,用蒸馏水洗净,移入250m]容量瓶中,稀释至标纔,混匀,贮于塑料瓶内。此溶液每毫升含
    1.0 Omgsio2。
    4.5.3.6二氧化硅标准溶液:取二氧化硅贮备液(4,5.3。5)10.0ml于100ml容量瓶中稀释
    至标线,贮备于塑料瓶内。此溶液每毫升含10.0gSiO2
    4.5.4仪器
    常用的试验室仪器及分光光度计(10mm光程的比色皿)、髙温炉、铂坩埚
    4.5.5测定步骤
    4.5.5.1取50.0ml水样于50ml比色管中。
    4.5.5.2另取7只50m1比色管。各加二氧化硅标准溶液(4.5.3.60,0.10.0.50,1.0,3.00,
    7.00,10.0ml;再加蒸馏水稀释至标线。
    4.5.E3向水样(4,5,5,1)及标样(4,5.5.2)各管中迅速顽次加入1.0mll:1盐酸溶液(4
    3.1),2.0ml铺酸铵溶液(4.5.3.2),至少上下倒转6次使之温合均匀,然后放置5~10min。加
    入2.m!草酸溶液(4.5.3.3),充分混匀。从加入草酸溶液计算时间,在2~15min肉加入
    2.0mnl还原剂(4.5.3.4),充分混匀。5min后,在60nm波长处,用10mm比色皿,以水为参比
    测定吸光度;也可放在比色管中目视比色。
    4.5.6结果计算
    5i02(mg /2)
    1000……………………い…いいいいmい(3
    式中;m校准曲线查得SO2含量,mg;
    水样体积
    5工艺用水要求
    各工种用水要求推荐采用表2。其它未列入的工种可参照相类似工种的要求。
    在表2中“配液用水”系指槽液的配制及补充用水。“清洗用水”系指每道工序中最后一个
    清洗槽的供水水质要求。
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