HG-T 2521-2008 工业硅溶胶.pdf
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- 关 键 词:
- HG-T 2521-2008 工业硅溶胶 HG 2521 2008 工业 硅溶胶
- 资源描述:
-
ICS71.060.20
备案号:23744~-208
中华人民共和国化工行业标准
HG/T2521-2008
代替IIG/T2521-~1993
工业硅溶胶
Silica Sof for industrial use
2008-04-23发布
2008-10-01实施
中华人民共和国国家发展和改革赛员会发布
HG/T2521~-2008
前言
请注意本标准的某些内容有可能沙及专利。本标准的发布机构不应承担识别这些专利的黄任。
本标准代替HG/T2521-93《工业碓溶胶》。
本标准与HG/T2521-93的主要技术差异如下
原标准平均粒径只有10nm~20nmー种规格。本标准扩大了平均粒径的范国,并将平均粒
径按用途分成四档:小于10nm;l0nm~20nm;20nm~40nm;40nm~100nm;
一原标准碱性钠型pH值指标为8.5~10.0和9.0~10.5,本标准统一规定为9.0~10.0
密度测定改用GB/T4472-1984《化工产品密度、相对密度测定通则》中密度计法
本标准由中国石油和化学工业协会提出。
本标准由全国化学标准化技术委员会无机化工分会(SAC/TC63/SC1)归口。
本标准主要起草单位:天津化工研究设计院、青岛海洋化工有限公司、山东一鸭工贸有限公司。
本标准主要起草人:刘幽若、李春志、柳春磊、ト凡雷、胡熙美、吴仁智。
本标准所代替标准的历次版本发布情况:1993年首次发布。
HG/T2521~-2008
工业硅溶胶
范围
本标准规定了工业硅溶胶的分类、要求、试验方法、檢验规则以及标志标签、包装、运输、贮存。
本标准适用于工业硅溶胶。该产品主要用于精密铸造、造纸、纺织、涂料及电子等工业,还可用作无
机黏结剂、催化剂的载体、显像管涂层的助剂、地板蜡中的防滑剂等。
2规范性引用文件
下列文件中的条款通过本标雅的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有
的修改单(不包括勘误的内容)或修订版本均不适用于本标准。然而,鼓励根据本标准达成协议的各方
研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准
GB/T191-2000包装储运图示标志( eqv Iso780:1997)
GB/T1250极限数值的表示方法和判定方法
GB/T4472--1984化工产品密度、相对密度测定通则
GB/T6678化工产品采样总则
GB/T680液体化工产品采样通则
GB/T6682-1992分析实验室用水规格和试验方法( eqv ISO3696:1987
GB/T9724-1988化学试剂pH笪测定通则
HG/T3696.1无机化工产品化学分析用标准滴定溶液的制备
HG/T3696.3无机化工产品化学分析用制剂及制品的制备
3分子式
msio2 .nh2 0
4工业硅溶胶的分类、代号和型号如表1
表1
分类
破性紂型
酸性无稳定剂型
代号
IN
型号
JN-20
JN-25
JN-30
JN-40
SW-20
SW-25
Sw-30
注:代号说明:
平均粒径
氧化碓含量代号
稳定剂代号
酸性或破性代号
5要求
5.]外观:乳白色半透明胶状液体
HG/T2521-2008
5.2工业砫溶胶应符表2要求。
表2要求
碱性钠型
酸性无稳定剂型
JN-25
JN-30
JN-40
SW-20
SW-25
sW-30
二氧化砫
20.0~21.0125.0~26.0130.0~31.0140.0~41.0120.0~21.025.0~26.0「30.0~31.0
( Sio2 ):/%a
氧化钠(Na2()
0.30
0.04
0.06
pH值
2,0~4.0
黏度(25℃)5.
5.0
6.0
P
密度(25℃
/(g/cm3)
12~1.14「1.15~1.1711.19~1.211.-28-~1.3011.12~1.141.15~1.171.19~1.21
平均粒径Ⅱ
10~20
/nm
21~40
41~100
注:平均粒径<10的产品黏度值由供需双方商定
6试验方法
6.1安全提示
本试验方法中使用的部分试剂具有腐蚀性,操作时须小心谨慎!如溅到皮肤上应立即用水冲洗,严
重者应立即治疗。
6.2一般规定
本标准所用试剂和水在没有注明其他要求时,均指分析纯试剂和GB/T6682-192中规定的三级
水。试验中所用标准滴定溶液、制剂及制品,在没有注明其他要求时,均按HG/T3696.1、HG/T3696.3
的规定制备
6.3外观判别
在白然光下,用目视法判定外观
6.4二氧化硅含量的测定
方法提要
将试样烘干,再置于800℃~850℃下灼烧至质量恒定。扣除氧化钠,获得二氧化硅含量
6.4.2分析步骤
用预先在800℃~850℃下灼烧至质量恒定的瓷坩埚称取约2g试样,精确至0.2mg。于105℃
110℃下烘干,再置于800℃~850℃下灼烧至质量恒定。
6.4.3结果计算
二氧化硅含量以二氧化硅(SiO2)的质量分数1计,数值以%表示,按公式(1)计算
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